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这款箱式炉以1850型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能...
这款箱式气氛炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能...
这款箱式气氛炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能...
这款箱式气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统...
这款箱式气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统...
这款气氛箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多纤维材 料,双层炉壳间配...
这款气氛箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多纤维材 料,双层炉壳间配...
CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统 ,Z高温度可以达到1200度、1400度、1600度、1700度,加热区间可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达...
CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统 ,Z高温度可以达到1200度、1400度、1600度、1700度,加热区间可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达...
这款箱式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能...
这款箱式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能...
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