真空淬火炉是用硅碳棒为加热元件的真空炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空环境下烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组...

真空中频感应熔炼炉为立式炉型、周期作业式，供合金钢、镍基合金、稀土元素等在真空或保护气氛下进行熔炼及浇铸之用。也可以用于金属材料的精炼处理。

真空中频感应熔炼炉为立式炉型、周期作业式，供合金钢、镍基合金、稀土元素等在真空或保护气氛下进行熔炼及浇铸之用。也可以用于金属材料的精炼处理。

无锡高温炉,适合高校工厂等地方的实验用炉，温度精准，广泛应用与烧结。玻璃烧结，灰化等实验。

无锡高温炉,适合高校工厂等地方的实验用炉，温度精准，广泛应用与烧结。玻璃烧结，灰化等实验。

这款管式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉膛分为左右两个半圆，需要急速冷却或换管子时，...

这款管式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉膛分为左右两个半圆，需要急速冷却或换管子时，...

双管CVD系统 由供气系统+双管管式炉+抽气系统 ，Z高温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节...

双管CVD系统 由供气系统+双管管式炉+抽气系统 ，Z高温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节...

滑动管式炉是在炉底安装一对滑轨，可用手滑动。可以达到快速升降温的目的，为取得Z快加热速率，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品区。为获得Z快冷却，可...

滑动管式炉是在炉底安装一对滑轨，可用手滑动。可以达到快速升降温的目的，为取得Z快加热速率，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品区。为获得Z快冷却，可...

这款碳纤维炉膛气氛箱式炉以1800型钼丝为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用碳纤维材料，双层炉壳间配有风冷系...

这款碳纤维炉膛气氛箱式炉以1800型钼丝为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用碳纤维材料，双层炉壳间配有风冷系...

这款管式炉以瑞典康泰尔进口电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉膛分为上下两个...

这款管式炉以瑞典康泰尔进口电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉膛分为上下两个...

这款管式炉以1800型硅钼棒和硅碳棒为加热元件，有两个加热区，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，每个加热区能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化...

这款管式炉以1800型硅钼棒和硅碳棒为加热元件，有两个加热区，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，每个加热区能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化...

这款管式炉有三个加热区，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，每个加热区能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端装有不锈钢法兰...

这款管式炉有三个加热区，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，每个加热区能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端装有不锈钢法兰...

这款双温区转动管式炉可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀，炉体的一端安装有铰链，另一端安装有升降支撑杆，可大角度倾斜，方便出放料。该炉...