采真空接触曝光图形解析可达1um,
近接曝光依光罩与晶圆间隙可达3~5um。
德扬光电有限公司
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產品簡介: 双面曝光曝光机采用上及下两组曝光源,欲曝光机基板夹于上下光罩之间同时曝基板上下两面,对双面制程之基板之产能, 能两倍于单面曝光制程。
双面曝光曝光机采用上及下两组曝光源,
欲曝光机基板夹于上下光罩之间同时曝基板上下两面,
对双面制程之基板之产能, 能两倍于单面曝光制程。
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