紫外光源机型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″，圆或方， 波长: NUV(含365nm， 405nm，435nm) 。

光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口径) 均匀度: +-3~5%，

高压汞灯泡及电源供应器。

采用可变倍率镜头方便对准操作，标准总倍率50X-300X， CCD摄影机影像系统，

19吋 LCD萤幕 打光有LED同轴光或环形光， 观测的两点间距4cm-20cm，

可加装转折镜到更小间距， 可加装镜头扫描台以快速移动镜头， 可选配背面对准影像系统。

光罩真空吸盘 : 上吸式或下吸式 4″，5″， 6″， 7″， 9″ 。

晶圆真空吸盘 : 2″， 4″， 5″， 6″，8″， 圆或方， 具光罩晶圆水平校正功能。

曝光模式有真空接触式与近接式，可调整真空吸附力大小 X，Y轴调整10mm，调整灵敏度1um， Z轴可调整5mm，

千分表解析度1um， 上光罩以手开启以取放基板。

全手动操作系统，每一动作均需手动操作。

操作流程 : 置基板，手动关下光罩吸盘，镜头移入做对准动作，chuck上移至曝光位置，镜头移出灯源移入曝光(计时)， 灯源移出，光罩吸盘开启，取出基板， 曝光计时器时间设定:0.1-999秒。

具四个防震气垫，具调整脚及移动轮， 不锈钢支架及盘面，铝合金桌面及肋板，CDA之调整真空之显示，电源输出入等。

采真空接触曝光图形解析可达1um以内(正光阻厚1um)， 采近接式曝光依晶圆与光罩间距设定约在3~5um。