气氛管式炉适用于院校实验室，工矿企业实验室，供化学分析，物理测定以及金属，陶瓷等的烧结和溶解，小型钢件等加热，焙烧，热处理用。

TN-G1200真空管式气氛炉适用于院校实验室，真空管式气氛炉控制面板采用八寸触摸屏操作，设有电炉启动/停止按钮、仪表开关，电压表、电流表，可实时查看电炉的工作...

单温区可倾斜旋转管式炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材质、新材料开发、特种材料、建筑等的实验研究产品介绍

TN-G1600L立式开启式管式炉厂家适用于院校实验室，工矿企业实验室，供化学分析，物理测试及金属，陶瓷等的烧结和溶解，小型钢件等加热，焙烧，热处理。

TN-G1400X多工位管式炉是一款已通过CE认证的小口径管式炉，是专门为制备小样品而设计的仪器,广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开...

TN-G1200ZC管式炉CVD系统广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领...

TN-G1700S三温区三路气体CVD系统三温区管式炉主要用途：陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧...

TN-G1200Z气氛管式炉适用于院校实验室，工矿企业实验室，供化学分析，物理测定以及金属，陶瓷等的烧结和溶解，小型钢件等加热，焙烧，热处理用。

TN-G1100C管式炉CVD主要用于高校、科研院所、工矿企业做钢材渗碳处理、高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验。

TN-G1400X型旋转管式炉主要用途：高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火，特别适合制备锂离子电池带导线图层的负极材料等。

TN-G1200K多工位管式电炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材质、新材料开发、特种材料、建筑等的实验研究。

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TN-G1000L立式管式炉（开启式）适用于院校实验室，工矿企业实验室，供化学分析，物理测试及金属，陶瓷等的烧结和溶解，小型钢件等加热，焙烧，热处理。

TN-G1700S双温区管式炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。

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TN-G1100ZC高真空CVD管式炉主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等

TN-G1700S三温区真空管式炉采用双层风冷结构；炉膛采用高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；加热元件为高密度硅钼棒配有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其...

TN-G1700DC三通道管式炉广泛用于各种反应温度在1600℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。