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TN-G1700S三温区三路气体CVD系统三温区管式炉主要用途:陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧...
TN-G1700S三温区真空管式炉采用双层风冷结构;炉膛采用高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型;加热元件为高密度硅钼棒配有真空装置,可在多种气氛下工作,大大提高了其...
TN-G1700DC三通道管式炉广泛用于各种反应温度在1600℃左右的CVD实验,也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
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