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  • 单温区可倾斜旋转管式炉

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  • 气氛管式炉

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  • 管式炉CVD

    TN-G1100C管式炉CVD主要用于高校、科研院所、工矿企业做钢材渗碳处理、高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验。

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  • 单温区立式管式炉

    TN-G1700L单温区立式管式炉适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测试及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理。

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  • 管式炉

    TN-G1200管式炉适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测定以及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理用。

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  • 开启式管式电炉

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  • 高真空CVD管式炉

    TN-G1100ZC高真空CVD管式炉主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等

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  • 高温管式炉

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