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单温区可倾斜旋转管式炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材质、新材料开发、特种材料、建筑等的实验研究产品介绍
TN-G1200ZC管式炉CVD系统广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验,也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领...
TN-G1200Z气氛管式炉适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测定以及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理用。
TN-G1100C管式炉CVD主要用于高校、科研院所、工矿企业做钢材渗碳处理、高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验。
TN-G1700L单温区立式管式炉适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测试及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理。
TN-G1200管式炉适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测定以及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理用。
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TN-G1100ZC高真空CVD管式炉主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
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