技术参数 | |
|---|---|
| 设备型号 | ZCJ-300（600、1200） |
| 极限真空 | 8×10-5Pa |
| 腔室功能分类 | 进、出样室（1000Pa） |
| 过渡室（0.5Pa） | |
| 缓冲室（压力及气氛匹配溅射室） | |
| 溅射室（0.5Pa） | |
| 溅射靶类型 | 矩形平面靶、圆柱旋转靶 |
技术参数 | |
|---|---|
| 样品幅宽 | 300、600、1200mm |
| 常用靶材 | ITO、NiO2、Cu |
| 靶基距 | 80~120mm |
| 镀膜节拍 | ≥60s |
| 连续运行时间 | ≥200h |
| 片内膜厚均匀性 | ≤±3% |
| 片间膜厚均匀性 | ≤±3% |
营口金辰机械股份有限公司
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技术参数 | |
|---|---|
| 设备型号 | ZCJ-300（600、1200） |
| 极限真空 | 8×10-5Pa |
| 腔室功能分类 | 进、出样室（1000Pa） |
| 过渡室（0.5Pa） | |
| 缓冲室（压力及气氛匹配溅射室） | |
| 溅射室（0.5Pa） | |
| 溅射靶类型 | 矩形平面靶、圆柱旋转靶 |
技术参数 | |
|---|---|
| 样品幅宽 | 300、600、1200mm |
| 常用靶材 | ITO、NiO2、Cu |
| 靶基距 | 80~120mm |
| 镀膜节拍 | ≥60s |
| 连续运行时间 | ≥200h |
| 片内膜厚均匀性 | ≤±3% |
| 片间膜厚均匀性 | ≤±3% |
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