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光刻机介绍
曝光装置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″
光源 超高压水银灯 ：500W or 1kW
曝光装置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″
光源 超高压汞灯：500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃， 对齐精度自动对齐：+/- 1 μm（
峰值搜索）
Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML 光源超高压汞灯：3.5kW Ø200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光装置MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
主要规格
| 型式 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1205 | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| *小线幅 (※1) | [μm] | 5 | 3 | 2 | 1 | |||
| 数据分辨率 | [μm] | 0.488 | 0.25 | 0.1 | 0.05 | |||
| *大基板尺寸 | [mm] | 200 x 200 | 200 x 200 | 100 x 100 | ||||
| 有效曝光范围 | [mm] | 200 x 200 | 200 x 200 | 100 x 100 | ||||
| 激光主波长 | [nm] | 405 | 375 | 405 + 375 | 405 | 375 | 375 | |
| 曝光扫描速度 | [mm/s] | 43.94 | 22.5 | 9 | 4.5 | |||
| 节拍时间 | [s,min] | 180 [s] | 320 [s] | 16 [min] | 27 [min] | |||
| *大曝光量 | [mJ/c㎡] | 245 | 70 | 245 + 70 | 460 | 135 | 50 | 100 |
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