详情介绍：
光刻机介绍
曝光装置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″
光源 超高压水银灯 ：500W or 1kW
曝光装置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″
光源 超高压汞灯：500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃， 对齐精度自动对齐：+/- 1 μm（
峰值搜索）
Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML 光源超高压汞灯：3.5kW Ø200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光装置MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
主要规格
MUM系列 掩膜尺寸 Max 9″ x 9″ x t3.0 mm 基板尺寸 Max Φ8″(Wafer) 光源 超高压水银灯：500W or 1kW 外观尺寸及重量 本体尺寸 W2120 x D1305 x H1850 mm 本体重量 640kg
| MUM系列 | ||
|---|---|---|
| 掩膜尺寸 | Max 9″ x 9″ x t3.0 mm | |
| 基板尺寸 | Max Φ8″(Wafer) | |
| 光源 | 超高压水银灯：500W or 1kW | |
| 外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W2120 x D1305 x H1850 mm |
| 本体重量 | 640kg | |
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