SGN思峻GMD系列氧化锌高剪切研磨分散机-上海思峻机械设备有限公司

SGN思峻GMD系列氧化锌高剪切研磨分散机，氧化锌研磨分散机，氧化锌高速分散机，氧化锌超细均质机，氧化锌管线式分散机

纳米氧化锌是一种多功能性的新型无机材料，其颗粒大小约在1～100纳米。由于晶粒的细微化，其表面电子结构和晶体结构发生变化，产生了宏观物体所不具有的表面效应、体积效应、量子尺寸效应和宏观隧道效应以及高透明度、高分散性等特点。近年来发现它在催化、光学、磁学、力学等方面展现出许多特殊功能，使其在陶瓷、化工、电子、光学、生物、医药等许多领域有重要的应用价值，具有普通氧化锌所无法比较的特殊性和用途。纳米氧化锌在纺织、涂料等领域可用于紫外光遮蔽材料、抗菌剂、荧光材料、光催化材料等。

影响纳米材料分散要素：

1、分散介质

（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。

2、分散剂

（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

（2）分散剂的用量，与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

（3）水性介质中，*使用TNWDIS。强极性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，*使用TNEDIS

询价和技术问题请来电：李（）公司有样机可供客户免费实验，欢迎广大客户来我司参观指导。

上海SGN（思峻）机械设备有限公司专门应对纳米材料分散开发的高剪切研磨分散机GMD2000系列适合大规模地分散纳米氧化铝，纳米氧化锌，纳米氧化铈，纳米氧化铁，纳米氧化铋，纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、纳米三防整理剂等系列粉体、液体、制剂在中、低粘度介质里的分散。

SGN思峻GMD系列氧化锌高剪切研磨分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

GMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

设备参数：

研磨分散机	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
GMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
GMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
GMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
GMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
GMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
GMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。