设备简述
ZY-11弧离子镀膜机是我公司自主研发的超硬膜离子镀膜机，采用的新型过滤弧源镀膜技术、等离子体增强阳极辅助镀膜技术，规划了炉体内等离子体的路线和分布，增强了刻蚀效果，提高了离化率，使得靶材表面被均匀刻蚀，涂层表面更光滑致密，提升了涂层的结合力，确保了涂层厚度及涂层的均匀性。同时，新技术的应用提高了镀膜效率，节约了能耗和运行成本。
设备参数
| 炉体尺寸 | Ф1180XH1050 | 有效空间 | Ф800XH650 |
| 应用技术 | IET+ BIG ARC | 靶材数量 | IET2+ARC9 xφ160 |
| 标准涂层 | TiN, CrN, AlCrN, etc. | 其他复合涂层 | TiAlCrN, TiSiN,TiAlCN,etc. |
| 生产周期 | 4-6小时/炉 | 外围尺寸 | L5800XW2100XH2100mm L4800XW3000XH2100 |
| 使用范围 | 适用于滚刀，钻头，棒状铣刀，微钻，刀粒等。 | ||
应用
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