KJ-CVD 是一种分体式管式炉，配备 60mm 直径的石英管、真空泵和四通道质量流量计气体流动系统。 可混合1-6种气体进行CVD。
应用范围：
此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
技术参数：
| 产品名称 | 1600 CVD 系统 | |
| 产品型号 | KJ-T1600 CVD | |
| 部分：标准部分 | ||
| 管式炉 | 显示 | LED |
| 炉体 | 分体式和上部可以打开 | |
| 温度 | 1600℃ | |
| 工作温度 | ≤1500℃ | |
| 升温速率 | 0~10℃/min | |
| 温区 | 300mm | |
| 加热元件 | MoSi2加热元件 | |
| 热电偶 | B 型 | |
| 温度控制精度 | ±1℃ | |
| 炉管 | 80 x 1000mm (OD x minimum L) | |
| 材质：高纯氧化铝管 | ||
| 温度控制 | 通过可控硅功率控制进行PID自动控制 | |
| 加热曲线 | 30 步可编程 | |
| 真空法兰 | 带阀门的不锈钢真空法兰 | |
| 电压与功率 | 220V, 50 Hz, 单相 4KW | |
| 真空泵系统 | 旋片真空泵+扩散真空泵 | 真空泵组：极限真空10-6 Torr。 旋片真空泵和扩散真空泵将设计成推车带轮子。 |
| 质量流量计 | 四个精密质量流量计： 底壳安装1个气体混合罐，底壳左侧安装6个不锈钢针阀，手动控制6种气体混合 | |
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