产品用途与特点：
1、本产品通过物理与化学相结合的方法，对亚微米一下线条进行干法刻蚀，以形成精细图形。设备具有选择比高、刻蚀速率快、重复性好、性价比高等优点。可刻蚀的材料主要有 SIOx、SINx、多晶硅、硅、SIC、GaN、GaAs、聚酰亚胺、光刻胶、半导体材料、部分金属等。
2、主要应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、新能源等领域的器件研发和制造。
3、产品适合于科研院所、大专院校、中小型生产企业的科研及教学。
产品主要技术指标
1、真空系统：分子泵机组
2、刻蚀室数量：单室
3、样品有效刻蚀尺寸：Ф1 英寸～Ф8 英寸
4、刻蚀速率：0.1um～2um/min（视材料与工艺）
5、刻蚀不均匀性：±5%
6、工艺气体：配备 3 路耐氟基腐蚀气路，或用户选配：氯基气体刻蚀：可选配
7、关键部件：可选配进口、国产
8、操作方式：可选择手动、全自动控制模式
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