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牛津仪器科技（上海）有限公司

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PlasmaPro 100 PECVD

PlasmaPro 100 PECVD

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具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号：
  • 品牌：
  • 产品类别：其它
  • 所在地：上海
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  • 更新时间：2025-02-07 13:56:06
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产品简介

设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下，生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。 询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品

详情介绍
  • 高质量PECVD沉积氮化硅 和 二氧化硅 用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
  • 用于高亮度LED 生产的硬掩模沉积和刻蚀
High rate SiO2 PECVD

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