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多层金属复合材料的制备工艺2022/6/17
根据多层复合材料在制备过程中组员材料的不同物理状态，可以将多层复合材料的制备方法大体分为三类：固相-固相复合、液相-固相复合、液相-液相复合。固相-固相复合的方法主要有爆炸焊接法，轧制法、扩散法，以及...
碳化硅半导体封装核心技术分析——银烧结技术2022/6/17
随着电子产业的发展，电子产品正在向着质量轻、厚度薄、体积小、功耗低、功能复杂、可靠性高这一方向发展。这就要求功率模块在瞬态和稳态情况下都要有良好的导热导电性能以及可靠性。功率模块的体积缩小会引起模块和...
B4C防弹陶瓷插板应用解决方案2022/6/17
陶瓷材料拥有许多吸引力的性能，包括高比刚度、高比强度和在许多环境下的化学惰性。同时，因其相对于金属的低密度、高硬度和高抗压强度，使其在装甲系统上的应用十分具有吸引力，己成为一种广泛应用于防弹衣、车辆和...
*陶瓷干压成型工艺2022/6/17
成型工艺在整个陶瓷材料的制备过程中起着承上启下的作用，是保证陶瓷材料及部件的性能可靠性及生产可重复性的关键。陶瓷常用的成型方法有干压、注浆、流延以及注射等，其中干压成型是应用广泛的一种成型工艺，也是手...
多层金属复合材料研究现状2022/6/17
随着科学技术的发展和进步，对材料的性能要求也越来越高，传统材料由于结构单一，综合性能不够突出，难以满足对多性能耦合要求的服役环境。但是由多种不同性能的材料通过物理或者化学方法结合制备而成的复合材料，既...
金属基复合材料的制备2022/6/17
近些年来，科技的不断发展和进步，使得传统材料已无法满足多种产业对其比强度、比刚度等性能的要求。高性能材料的研发是现今新科技发展的重要方向，而复合材料的出现在较大程度上解决了材料所面临的问题，促进了材料...
金属基复合材料2022/6/17
金属基复合材料（MetalMatrixcomposites,MMCs）主要是指以金属、合金为基体材料，以纤维、晶须、颗粒等高强度材料作为增强体，制备而成的一种复合材料。MMCs的常用的制备方法有：粉末...
碳化硅晶体的高温退火处理2022/6/17
碳化硅SiC晶体生长较常见，较成熟的方法仍然是物理气相输运法（PVT），该方法是一种气相生长方法，生长温度高，对原材料以及工艺参数等都有很高的要求。近年来，国内外对PVT工艺的开发投入了大量的时间和精...
第三代半导体材料之碳化硅2022/6/17
碳化硅SiC是一种由硅﹙Si﹚与碳﹙C﹚以共价键为主结合而成的化合物，其基本单元为Si-C四面体，其中Si原子位于中心，周围为C原子。SiC所有的结构均由Si-C四面体以不同的堆积方式构成。目前已发现...
ITO靶材常压烧结工艺进展2022/6/17
20世纪90年代初兴起了一种新的靶材烧结方法-常压烧结法，它是指在一定气氛和温度条件下对ITO靶材的素坯进行烧结，通过对烧结过程中各因素的控制，来有效控制ITO素坯晶粒的生长，从而达到靶材的晶粒分布均...
ITO靶材烧结工艺2022/6/17
ITO（氧化铟锡）是制备ITO导电玻璃的重要原料。ITO靶材经溅射后可在玻璃上形成透明ITO导电薄膜，其性能是决定导电玻璃产品质量、生产效率、成品率的关键因素。ITO靶材性能的重要指标是成分、相结构和...
ITO靶材应用及发展前景2022/6/17
氧化铟锡（ITO）晶体结构氧化铟锡（ITO）是通过用锡掺杂In2O3而形成的n型半导体，晶体结构是In2O3结构，其中In2O3结构具有两种形态，一种是立方铁锰矿结构，另一种是六方刚玉结构。立方铁锰矿...
AZO靶材 热压制备工艺2022/6/17
透明导电氧化物（TransparentConductiveOxide，TCO）是一种在可见光光谱范围（380nm＜λ＜780nm）透过率很高且电阻率较低的薄膜材料，由于其良好的光电性能在节能玻璃、热窗...
碳化硼复合靶板制备及抗弹测试2022/6/17
近30年来，复合装甲中一般采用金属与非金属组成的多层结构，由外层装甲钢和背板装甲组成集体，非金属材料（陶瓷、增强纤维）充填其中。常见的陶瓷材料有氧化铝、碳化硅、氧化锆、碳化硼等，增强纤维有玻璃纤维、碳...
热压碳化硼防弹陶瓷制备工艺及解决方案2022/6/17
碳化硼是一种新型非氧化陶瓷材料，因其具有熔点高、硬度高、密度低、热稳定性好，抗化学侵蚀能力强和中子吸收能力强等特点而被广泛应用于能源、军事、核能以及防弹领域。碳化硼又称黑钻石，是仅次于金刚石和立方氮化...
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