光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，紫外曝光机等；ECOPIA为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以的技术、*的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

型号：M-150

技术规格：

- 掩模尺寸：大7英寸；

- 样品尺寸：大6英寸；

- 卡盘移动：X,Y,Z,Theta轴手动，楔形补偿调平；

- 紫外光源：6.25" X 6.25"；

- 光源功率：350瓦紫外灯；

- 光源均匀性：<+/-3%；

- 光源365nm波长强度：大30毫瓦；

- 显微镜：双显微镜系统；

- 显微镜移动：X,Y,Z轴手动调节；

- 显微镜物镜空间：50-150mm；

- 标配放大倍率：80X-400X；

- 显示器：20" LCD；

- 曝光时间：0.1-999秒；

- 接触模式：真空接触，硬接触，软接触，接近接触(距离可调)；

- 对准精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；

- 电源：220V，单相，15安培；

主要特点:

- 光源强度可控；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；

- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；

- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；

- 真空吸盘范围可调；

-技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式

- 双CCD显微镜系统，大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。

- 特殊的基底卡盘可定做；

- 具有楔形补偿功能；