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晶片清洗剂

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具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:
  • 品牌:
  • 产品类别:其它通讯辅助设备
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  • 信息完整度:
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  • 更新时间:2025-05-26 13:26:10
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  • 联系人:王经理
  • 电    话:13751081413
产品简介

远岸科技的晶片清洗剂含有多种高效的表面活性剂,以及高质量的缓蚀剂和一些其他助剂。是使用特殊工艺所制成的一款水基型的清洗剂产品。是专门针对硅晶片切割工艺的胶粘合剂去除所研制的,具有十分优异的除胶性能。多是用于太阳能电池硅晶片切割加工后的除胶作业,也可以用于各类芯片的除胶作业,在各大客户的反响良好,值得大家了解,咨询。

详情介绍

产品介绍

Q101晶圆清洗剂

应用于各种芯片、线路板、摄像头模组VCM、LED等超精密电子元器件的清洗;主要用于清除表面污垢、PCB&FPC松香助焊剂残留、油脂、细小颗粒物少量残留的胶类物质 产品具有很强的渗透性,对细小缝隙、微孔及纳米级颗粒物具有的清洗力;清洗剂呈碱性,但无任何碱性成分。

特点:

清洗后产品良率可达99.8%

无污染可做到、可生物降解;

渗透、去污力强,适合于形状复杂电子零部件及深孔部件

污垢残留物经清洗、剥离后沉底,增强了循环使用的寿命

不损伤电路及芯片镀膜层

无闪点,不会燃烧,使用安全

环保,符合 ROHS 指令。

推荐工艺:

image.png


1.根据清洗脏污,1:1-5倍稀释使用;

2.清洗温度:清洗粉尘颗粒物20-40℃,清洗松香、残胶50-70℃

3.清洗时间5-10分钟,产品表面有顽固账污可适当延长清洗时间;

4.定时清理槽液内沉淀物,以免影响清洗效果,有循环过滤装置;

5.超精密产品建议使用喷淋设备或高频超声波设备,避免超声波震动伤到产品;

清洗前后效果图:

image.png

物性参数:

特性

数据

外现(原液)

透明液体

外观(稀释液)

透明液体

气味

轻微

[℃]

1

密度

[kg/m³.15℃]

1100

PH值(原液)

12.5±0.5

质量标准:

产品符合中华人民共和国水基清洗剂标准JB/T 4323-2019

产品符合欧盟ROHS标准。

产品包装、贮存和运输:

塑料桶包装: 10KG、20KG、25KG/桶,非危险品易于储存和运输;

贮存期两年,不能露天存放,防止 日晒雨淋

未使用完的清洗剂须将桶盖拧紧,避免水分及杂质混入。

本资料是以远岸科技认为可靠的技术资料为基础的,免费提供,仅有技术背景的人员参考,使用者应自行处理并承担由此引起的责任。由于使用条件超出本公司的控制范围,对于与本资料有关的任何使用,本公司无法提供直接或暗示的保证,且不对使用本资料负任何法律责任。本文中所述的任何资料都不应当成使用上的许可或侵犯任何权力的建议。


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