电子束蒸发镀膜机
型号：HVC-800DA
厂家：韩国Hanil真空
技术指标:
（1）可沉积各种金属材料包括难熔金属、绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品.
（2）具有高真空(< 2×10-7 Torr ), 低腔温（<90oC），适合Lift-Off制程要求.
（3）可装载标准的2’’和4’’的晶片和不规则大小的样品，样品的均匀性 <3%.
（4）设置6个坩锅，可以完成不同金属薄膜的多层沉积.
（5）配有膜厚仪实时对膜厚进行检测，实现对薄膜的厚度的精确控制。
（6）配备软件操作系统，可编制沉积程序，并可选择进行手动和自动制程。
主要功能及应用范围：主要用于光学膜、电学膜以及半导体领域的高质量薄膜的沉积。
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