产品简介
精确的显影液恒温控制系统
精确的显影速度控制系统
显影、抗氧化自动补充系统
二次水洗功能,胶水循环系统
显影和水洗毛刷转速可调
特殊设计,防止泡沫产生
显影液自动注入功能
详情介绍
- 精确的显影液恒温控制系统
- 精确的显影速度控制系统
- 显影、抗氧化自动补充系统
- 二次水洗功能,胶水循环系统
- 显影和水洗毛刷转速可调
- 特殊设计,防止泡沫产生
- 显影液自动注入功能
- Accurate processing temperature control system
- Precise processing speed control system
- Automatic chemical and anti-oxidation replenishment system
- Re-wash cycle, Gum cycle system
- Processing and washing brush speed adjustable
- Special anti-foaming design
- Automated chemical fill
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NR 940 CTP 显影机由显影、水洗、上胶、烘干系统组成,由*处理器进行精确控制。开机后即可自动调节显影液至设定温度并保持恒温状态。前置感应器自动检测进版状态并 控制机器由待机模式进入工作模式,各系统按预置参数进行工作。能自动保持预先设定的显影温度、显影时间、烘干温度等显影数据,具有消耗自动补充和抗氧化自 动补充系统,维持显影液状态稳定。同时,NR 940 CTP 显影机具有显影液自动注入功能,提升工作效率和免除人工操作的不便。 |  |
冲洗工艺流程 DEVELOPMENT PROCESS FLOW  |
技术参数 TECHNICAL PARAMETER 机型 MODEL | NR 940 | 版材类型 Plate type | 阳图热敏 CTP 版材 Positive thermal CTP plate | 版材尺寸 Plate size | 宽度(W) MAX 940mm 长度(L) MIN 400mm | 版材厚度 Plate thickness | 0.12mm-0.40mm | 版材处理速度 Processing speed | 12-65s | 显影温度设定 Processing temperature range | 15℃-35℃ | 显影液升温速度 Developer heating time | 0.3℃/min | 显影液降温速度 Developer chilling time | | 0.2℃/min | 显影液补充系统 Chemicals replenishment system | 动态补充、静态补充、手动补充 Automatic chemical replenishment, Automatic anti-oxidation replenishment at starting, Manual replenishment | 显影槽容量 Developer tank capacity | 45升(L) | 胶水槽容量 Rinse tank capacity | 大于1升,循环使用 >1L Recirculation | 洪干温度设定 | Dry temperature range 30℃-65℃ | 显影毛刷转速 | Developing brush revolving speed 50-120rpm | 水洗毛刷转速 | Washing brush revolving speed 50-120rpm | 显影温度误差 | Processing temperature deviation ±0.5℃ | 电源 Electrical supply | 单相 220V AC 3.5KW | 若因需要而变更设计,恕不另行通告。 We peserve the right to change, design without notice. | |
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