Marangoni 干燥

Marangoni 马兰戈尼干燥是基于 Marangoni 效应发展起来的干燥技术。典型的 Marangoni 干燥过程如图 4 所示。晶片进入干燥系统后，在水槽内溢流。由氮气携带 IPA 气体充满系统，在水面上形成 IPA 气体环境。随后晶片与水面缓慢脱离（可通过晶片提拉上升或缓慢排水两种方式实现） 由于 IPA 的表面张力比水小得多（25 ℃下，IPA 表面张力为 20.9×10-3 N/m；水的表面张力为 72.8×10-3 N/m），所以会在坡状水流表层形成表面张力梯度，产生 Marangoni 对流，水被“吸回"水面，如下图所示

虽然同样是 IPA 干燥，但是 Marangoni 干燥与 IPA Vapor 干燥有本质的不同，前者是通过表面张力梯度将水拉回水面，后者则是靠水的蒸发。 相比于IPA Vapor 干燥 ，Marangoni 干燥IPA 用量很少，且能够克服深窄沟渠的脱水困难，比较适合直径 150 mm ( 6 英寸) 以上晶片的干燥。Marangoni 干燥存在的问题是晶片易出现水痕缺陷，晶片与晶舟接触处、晶片下方是常见的水痕区域 。为消除水痕缺陷，这类设备中一般配备简易晶舟，以减少晶片与晶舟的接触面积，另外，采用温水浴、超声波震荡 IPA Bub- bler 和变速提拉等也是常用的消除水痕缺陷的手段。

Marangoni 干燥(马兰戈尼干燥)受多种因素影响，如晶片的提拉速度，IPA/N2 流量和排风的设置等，因此此种方法技术难度较高。

作为湿制程设备制造商，南通华林科纳半导体设备有限公司对干燥系统有丰富的生产经验和产线使用验证，为硅片的清洗干燥提供有效的保障。

化学品相关湿法腐蚀相关设备（RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等）以及干燥设备（马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔甩干机、双腔甩干机），.