产品描述
Mark I 使用高压力低流量真空除尘技術, 去除薄膜與片材上小於 20 微米的微粒子。典型除塵吸頭包括集塵吸入口前后的毛刷和静电消除棒。Ion-O-Vac 通常安裝於材料与滾輪之间的表面,接触超过30° 的情况下使用,如此的安裝才能有效發揮其高压真空的清潔效果。
广州希埃西托智能科技股份有限公司
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Mark I 使用高压力低流量真空除尘技術, 去除薄膜與片材上小於 20 微米的微粒子。典型除塵吸頭包括集塵吸入口前后的毛刷和静电消除棒。Ion-O-Vac 通常安裝於材料与滾輪之间的表面,接触超过30° 的情况下使用,如此的安裝才能有效發揮其高压真空的清潔效果。
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