PI 膜石墨化炉是我厂工程技术人员消化和吸收国外***的测温、控温技术、智能化、新材料技术和炉膛设计技术，推出的一项特别碳素材料行业（工艺允许也可适用于其他行业）的高性能智能化电炉。

●用途：    

应用碳素材料的烧结，PI 膜石墨化，导热材料石墨化、碳纤维绳的烧结，碳纤维灯丝的烧结石墨化及其它可在碳环境下烧结和熔炼的材料。

●特点：
3000℃以内超高温炉体，可满足各种材料的烧结和石墨化。
采用数显化智能控温系统，全自动高精度完成测温控温过程，系统可按给定升温曲线升温，并可贮存二十条共400段不同的工艺加热曲线。
采用内循环纯水冷却系统；数字式流量监控系统，炉体转换采用高性能中频接触器；全面的PLC水、电、气自动控制和保护系统。

●主要技术参数：
**使用温度：3000℃
高温区容积：0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、 0.1m3、 0.15m3、0.2m3 、0.3m3 、0.5m3、0.8m3
炉内工作气氛：真空、氢气、氮气、惰性气体等
温度均匀度：≤±10℃
温度测量：远红外线光学测温
测温范围1000~3000℃或600~3100℃
测温精度：0.2~0.75%
温度控制：程序控制和手动控制； 控温精度：±1℃
极限升温速度：50℃/分钟（空炉，视高温区容积和炉膛结构而定.