无尘烘箱，晶圆无尘烤箱-上海隽思实验仪器有限公司

无尘烘箱，晶圆无尘烤箱用途:

无尘烘箱，晶圆无尘烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

技术参数：

无尘等级：Class 100、10;

温度范围：RT+10～300℃；
温度均匀度：±2℃;

温度波动度：±0.5℃（空载）
温控精度：±0.1℃;

工作室尺寸：W1600×D1600×H1000（mm）（可定做）
电源：380v , 50Hz，16KW

网板：2块（高度可调节)

特点：
1.在普通环境下使用，能够确保烘箱内部等级达到Class 100；
2.全周氩焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；
3.采平面水平由后向前送风热风循环系统，风源由循环马达运转带动风轮经电热器，将热风由风道送至烤箱内部，且将使用后空气吸入风道成为风源再度循环加热，省电节能温度均匀性好，过滤效率99.99%，Class 100；
4.强制送风循环方式。双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，优良的温度控制精度。

智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统

智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统的重要性：
光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统主要技术性能：

电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率：2500W

控温范围：RT+10℃-250℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：±0.5℃

达到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：450*450*450、350*350*350（可自定义）

智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统的优越性：

预处理性能更好，更加均匀；效率高,一次可以处理多达4盒的晶片；更加节省药液；低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能；，有可自动吸取添加HMDS功能，智能型的程式设定，一键完成作业。