产品简介
Diener 等离子表面处理仪 Bel Jar35
详情介绍
技术数据:
·外壳约宽 560 mm x 高 1640 mm x 深 620 mm
·腔室容积:约 35 升
·供电电源:230 V / 16 A
·气体供给:3 个质量流量控制器 (MFC)
·真空腔室: 硼硅玻璃材质的玻璃罩 ∅ 315 mm x 高 500 mm
·溅射源: 1 个溅射源 2" - 3" + 挡板(针对反应性过程,可选配排烟管和进气口)
·基材支架: ∅ 140 mm(可选择旋转型、基材加热装置、基材冷却装置), 可切换为等离子预处理的电极(清洗、活化、蚀刻)
·控制系统:PC-控制系统 (Microsoft Windows XPe)
·压力测量装置: Pirani
·真空泵: 不同规格,来自不同制造商(根据需要配备活性炭过滤器)
其他选项:
·备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、法拉第笼、等离子体聚合配件、测试墨水、氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM 样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装,包括培训。
其它选项功能
·发生器频率: 40 kHz:功率 0 - 500 W
·3.56 MHz:功率 0 - 300 W
·直流偏置电源或单极性脉冲
·功率为 300 W 电压为 600 V DC
·发生器为 0 - 99% 无级可调型
技术数据:
- 外壳约宽 560 mm x 高 1640 mm x 深 620 mm
- 腔室容积:约 35 升
- 供电电源:230 V / 16 A
- 气体供给:3 个质量流量控制器 (MFC)
- 真空腔室: 硼硅玻璃材质的玻璃罩 ∅ 315 mm x 高 500 mm
- 溅射源: 1 个溅射源 2" - 3" + 挡板(针对反应性过程,可选配排烟管和进气口)
- 基材支架: ∅ 140 mm(可选择旋转型、基材加热装置、基材冷却装置), 可切换为等离子预处理的电极(清洗、活化、蚀刻)
- 控制系统:PC-控制系统 (Microsoft Windows XPe)
- 压力测量装置: Pirani
- 真空泵: 不同规格,来自不同制造商(根据需要配备活性炭过滤器)
- 其他选项: 备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、法拉第笼、等离子体聚合配件、测试墨水、氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM 样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装,包括培训。
- 其它选项功能
- 发生器频率:
- 40 kHz:功率 0 - 500 W
- 13.56 MHz:功率 0 - 300 W
- 直流偏置电源或单极性脉冲
- 功率为 300 W 电压为 600 V DC
- 发生器为 0 - 99% 无级可调型
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