日本advance riko桌面型快速退火炉MILA-5000 系列
MILA-5000系列
MILA-5000系列加热炉体使用红外金面退火炉，可以进行快速升降温，洁净加热。MILA-5000系列将温控器与石英加热腔集成于一体的经济型退火炉，可以在不同的气氛下进行加热。可通过USB连接电脑并进行监测与加热程序设置。
MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高温型）基础上升级的一款高真空型退火炉。该系列继承了MILA-5000系列的的特点：快速升降温，洁净加热，可在不同的气氛下加热。同样可以通过USB连接PC进行温度监测与加热程序设置。
用途
MILA-5000系列
铁电薄膜的晶体退火。
离子注入后的扩散退火，氧化膜沉积退火。
硅和复合晶片的烧结，合金化处理。
玻璃基板温度均匀退火。
热循环，热冲击，热疲劳测试。
程序升温解吸测试，催化效果测试。
MILA-5000UHV
在超高真空中进行热处理。
程序升温解吸气体分析炉。
特長
MILA-5000系列
1. 50℃/S的快速升温.
2. 可在真空，惰性气体，流动气氛，空气的气氛下进行加热
3. 精确的温度控制
4. 紧凑，桌面型设计
5. 通过USB连接电脑与炉体，可进行温控程序的编辑与传输
加热过程中可通过电脑监测加热数据
MILA-5000UHV
可进行超高真空的热处理
搭配分子泵，真空度可达到10-5Pa
继承了MILA-5000-P-N的全部特点
紧凑，桌面型设计
通过USB连接电脑与炉体，可进行温控程序的编辑与传输
加热过程中可通过电脑监测加热数据
仕様
MILA-5000系列
| 型号 | MILA-5000-P-N (高温型) | MILA-5000-P-F (均匀加热型) |
|---|---|---|
| 控温范围 | RT ～ 1200 °C | RT ～ 800 °C |
| 样品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) | |
| 加热气氛 | 空气，静态气氛，流动气氛，真空 | |
* 真空泵可选
* 加热温度or升温速率根据被加热样品的红外反射率，吸收率，热容和材料而变化。
高真空型
| 型号 | MILA-5000UHV |
|---|---|
| 控温范围 | RT ～ 1200 °C |
| 样品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) |
| 加热气氛 | 空气，静态气氛，流动气氛，真空 |
* 真空泵可选
* 加热温度or升温速率根据被加热样品的红外反射率，吸收率，热容和材料而变化。
日本advance riko桌面型快速退火炉MILA-5000 系列
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