纳米研磨机如研磨 纳米氧化铝，纳米氧化锌，纳米氧化铈，纳米氧化铁，纳米氧化铋，纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、
纳米研磨机的
是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
1 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
询价和技术问题请来电：李 （） 公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导。
的恶型号擦痕书
磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
| 研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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| GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
| GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。
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