KZSD2000-石墨烯陶瓷分散设备-上海思峻机械设备有限公司

石墨烯陶瓷分散设备，石墨烯陶瓷胶体磨 , 石墨烯氧化锆陶瓷研磨分散机是过陶瓷胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

石墨烯（Graphene）是一种二维碳材料，是单层石墨烯、双层石墨烯和少层石墨烯的统称。石墨烯一直被认为是假设性的结构，无法单独稳定存在，直至2004年，英国曼彻斯特大学物理学家安德烈·海姆(Andre Geim)和康斯坦丁·诺沃肖洛夫(Konstantin Novoselov)，成功地在实验中从石墨中分离出石墨烯，而证实它可以单独存在，两人也因“在二维石墨烯材料的开创性实验"，共同获得2010年诺贝尔物理学奖。并且，石墨烯在自然界也有产出，它体现为高能物理状态下的圈量子的粒子态相。

当前石墨烯产业化存在五大难点：石墨烯制备成本较高，良品率有待提升；主流制备方法各有优劣，工艺不稳定，技术有待改善；前期研发投入资金需求量大；下游需求方向尚不十分明确，需求蓝海难估；产业链延伸需要各环节配套，与下游需求对接尚待时日。

石墨烯氧化锆陶瓷研磨分散机的分散效果

影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率（越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。

定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求，公司在GRS2000系列的基础上又开发出GRS2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s

陶瓷分散设备的参数

陶瓷胶体磨	流量	输出	线速度	功率	入口/输出连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
GMGD 2000/4	50	9,000	23	2.2	DN25/DN15
GMGD 2000/5	200	6,000	23	7.5	DN40/DN32
GMGD 2000/10	500	4,200	23	22	DN50/DN50
GMGD 2000/20	1500	2,850	23	37	DN80/DN65
GMGD 2000/30	3000	1,420	23	55	DN150/DN125
GMGD 2000/50	6000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%。