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   规格参数：

1.磨抛盘（下盘）直径：φ300mm（双盘）

2.磨抛盘（下盘）转速50-400rpm（增量调速，zui小增量10）

3.载样盘（上盘）直径：φ150mm   桃形孔直径：φ25.4mm

4.磨抛头主轴转速10-80rpm（无级调速）

5.加载范围0.5-20Kg（zui小增量0.5Kg）

   描述：

双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域。适用于金属、晶体、陶瓷、玻璃、岩样、矿样等材料样品的研磨抛光，也可用于工厂的小规模生产。该机具有加工精度高，性能稳定可靠，操作简单，适用范围广的特点。本机广泛应用于大专院校，科研院所以及生产领域。

该机装备了二个研磨抛光盘，可以把研磨工序、抛光工序分开来做，避免了交叉污染，提高了工作效率。本机提供的压力稳定可靠，zui大压力可以达到200N。

双盘压力研磨抛光机采用大尺寸彩色触摸屏操作，界面友好，操作方便。全部操作程序都在机器的上部设定，减少了机器下部进水影响机器运行的风险。

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