输入电压

AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

   输入功率

< 2000W 

   输出功率

• 电压：1600VDC
• 大电流：150mA 

   腔体

石英腔体：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height

   溅射头和样品台

• 2英寸带水冷磁控溅射头
• 一个直径50mm不锈钢样品台，样品台可旋转，旋转速率0 - 5 RPM 

• 配有一手动操作的挡板，包含靶头支撑架

• 样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围：60-100mm

       （点击图片查看详细资料）

   控制面板

6" PLC集成触摸屏控制面板，可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度

   附件（可选）

• 双极旋片真空泵VRD-8，KF25接口

• KF25不锈钢波纹管

• 10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头  
    

   气氛

含一个控制进气的针阀和一个放气阀

   靶材

• 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
• 适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金属，可选购

   可选配件

• 膜厚监测仪
• 分子泵，可获得高真空， >10E-5 torr
• 为获得好的薄膜强度，建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。
• 500度样品加热台         
      

   体积

    
  ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

   净重

20 kg ( not included pump )

   质保和证书

• 一年质保，终生维护
• CE认证

   磁控溅射镀膜知识

与客户分享新的磁控溅射镀膜技术，请点击文章链接- Plasma Sputter Coating.