设备简述
本公司生产的ITO高光透导电玻璃镀膜线，是用氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金属靶材组合，在高度净化的厂房环境中，利用平面磁控技术，在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层得到的高技术产品。广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域，在压克力板材、玻璃、陶瓷、手机壳、电脑、PC、PET等表面磁控溅射高质量、多功能金属膜、防干扰电磁屏蔽膜(EMI)、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量连续式磁控金属化生产，采用同行业的生产工艺，极大地提高了膜层与工件的结合力、附着力。
设备参数
腔体
| 4pcs
| 进/出架室
| L2600×W300×H2200mm | 1.72m3 |
进/出架储气罐室
| Φ500×H1600mm | 2.51m3 | ||
占地
| 30m×10m | 进/出架传输室
| L2500×W200×H2000mm | 1.00m3 |
镀膜室主真空室 | L1300×W250×H2200mm | 0.72m3 | ||
玻璃架镀膜窗口尺寸 | L2300×H1600 | 进/出玻璃架节拍
| 5 mins | |
应用技术
| 磁控溅射
| 电源
| 直流电源40KW，中频电源40kw
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磁控靶
| 14pcs | ITO平面靶4支,Al圆柱靶8支, Cu圆柱靶1支, SS圆柱靶1支
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应用
| 液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域玻璃连续镀膜 | |||
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