实验电炉CVD系统什么意思？CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。
真空CVD系统简称CVD系统，CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统 ，额定温度可以达到1200度、1400度、1700度，加热区间可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合
1700度管式炉
这款CVD系统是由8路供气系统+SGM1200双温区管式炉+真空系统组成
SGM1200双温区管式炉:以硅碳棒或电炉丝为加热元件，有两个加热区，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，每个加热区能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端装有304不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，该炉为卧式，两个温区可以独立控制、设置不同的温度，使用方便，操作简单。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.。
实验室想买一套CVD的设备请问管式炉什么牌子?洛阳西格马高温电炉专业生产CVD管式炉CVD实验真空炉。
1200℃单温区CVD系统主要技术参数：
1200℃管式炉CVD系统 | |
| 单温区、双温区、三温区 | |
SGM- CVD-12L | |
1200℃ | |
420mm | |
210mm | |
Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mm | |
2.5Kw | |
220V | |
厦门宇电 控温系统50段程序控温； | |
±1℃ | |
＜1200℃ | |
密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装 | |
质量流量计 | |
3路（可根据具体需要选配气路数量） | |
0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定 | |
±1%F.S | |
≤4sec | |
5-45℃ | |
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） | |
采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 | |
中真空 | |
10Pa-100Pa | |
双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw | |
340×580×555mm | 480×770×605mm |
530x1440x750mm | |
230kg | |
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