DH500JJC多靶磁控溅射镀膜机主要用于科研实验，可制备纳米级和微米级的单层及多层工能膜-各种硬质膜，光学膜，金属膜，铁磁薄膜，半导体膜，介质膜和氧化物薄膜等多种薄膜。
该镀膜机为前开门式设计，功能强，镀膜质量稳定，重复性好，操作简便。真空室材料均采用优良材质SUS304不绣钢材料制造，工艺规范，精致，保证了材料的成膜纯度。
采用分子泵+直联机械泵机组，具有抽速快，无油，操作方便快捷，易于维护的特点。
◆ 镀膜方式：可实现多靶共溅模式
◆ 磁控靶：圆柱/平面靶；
◆ 进气系统：三路质量流量计；
◆ 镀膜室体积：500×500×600mm3
◆ 极限真空度：6.7×10-5Pa; 恢复真空度：从大气抽到6.7×10-4Pa;﹝40分钟﹞
◆ 真空抽气系统：机械泵与分子泵组成；
◆ 真空测量系统：数显复合真空计；
◆ 工作电源：真流电源500W；射频电源500W﹝13.56MHz﹞；加热控温电源；
◆ 工作烘烤温度：室温～800℃可控可调﹝PID控温﹞；
◆ 选配件：石英晶振测厚仪，冷却水机组等；
◆ 供电电源：三相AC380V，50Hz
◆ 特殊规格可定制。
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