超纯水设备厂家|实验室超纯水设备|工业

       制造的水是纯度*的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。
超纯水：既将水中的导电介质几乎*去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。 　　
       超纯水,是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm 　　
        纯水设备是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制水设备，这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。
       ，目前的主要工艺流程 　　
            1.预处理----复床 ----混床---抛光树脂 　　
            2.预处理----反渗透---混床---抛光树脂 　　
            3.预处理----反渗透----CEDI膜块----抛光树脂

中国国家实验室分析用水标准（GB6682-92）《分析实验室用水规格和实验方法》： 　　
        指标名称 一级水 二级水 三级水 　　
        1级水>10MΩ；2级水>1MΩ；3级水>0.2MΩ 　　
        PH值范围（25℃） - - - - 5.0-7.5 　　
        比电阻MΩ.cm@25℃> 10 1 0.2 　　
        电导率（25℃）us/cm≤ 0.1 1 5 　　
        可氧化物[以O计]mg/L -- 0.08 0.40 　　
        吸光度（254nm,1cm光程）≤ 0.001 0.01 -- 　　
        二氧化硅（mg/L） 0.02 0.05 -- 　　
       蒸发残渣（mg/L） -- 1.0 2.0
图1

图2