KJ-T1200大口径CVD管式炉是一种具有60mm直径石英管，真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的可拆分管式炉。 它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
产品用途：
包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
产品参数：
| 型号 | KJ-T1200-CVD |
| 显示 | 液晶显示屏 |
| 部分 | |
| 炉膛 | 分体式和上部可以打开 |
| 工作温度 | 1100°C |
| 加热速率 | 建议：0〜10℃/ min（20℃/ min） |
| 加热温区 | 500mm |
| 加热元件 | 钼电阻丝 |
| 温度控制精度 | ±1℃ |
| 炉管尺寸 | 外径200mm X长度1200mm |
| 供电电源 | 三相380V，50HZ |
| 功率 | 20KW （功率以实际设计为准） |
| 温度控制器 | 30段高精度数字可编程温度控制器 |
| 第二部分混气系统 七星华创 | |
| 量程 MFC1 H2 0-200sccm 氢气 MFC2 NH3 0-200sccm 氨气 (D07-26C 即可，但是需要特殊要求耐氨的) MFC3 SiH4 0-200sccm 硅烷（CS200A 硅烷专用流量计） | LCD触摸屏 |
| 第三部分 电阻硅真空计 | |
| 第四部分 射频电源 | |
| 更多规格可根据需求定制 | |
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