气氛真空箱式炉
气氛真空箱式炉
气氛真空箱式炉
产品参数
主要用途：电子陶瓷、半导体、发光材料等产品的水份、有机溶剂的中高温烧成、除碳、排胶、烧成等工艺；也可用于气氛真空实验、测试或者小试生产等。
主要特点：气氛加热系统，效率高，超轻质纤维材料保温，电控响应迅速，节能环保。模块化设计，产品系列齐全。
使用温度：600℃-1600℃。
常用气氛：氮气、氢气、氢氮混合气体或者真空状态使用等。
功能选件：耐热钢洁净外密封炉膛、的保护气氛系统、超轻质全纤维炉膛、计算机集成控制系统、温度曲线记录打印、气氛检测分析系统、设备净化应用。
备注：功能可根据客户需求专门定制。
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