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吸附式Scrubber

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产品简介

吸附式Scrubber吸附式scrubber尾气处理设备可处理气体种类包括半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉积制程中使用的特气,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等(1)吸附式原理吸附式scrubber是一种基于物理吸附和化学反应的尾气处理技术

详情介绍

吸附式Scrubber


吸附式scrubber 尾气处理设备可处理气体种类包括半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉积制程中使用的特气,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等

 

(1)吸附式原理

吸附式scrubber是一种基于物理吸附和化学反应的尾气处理技术。其主要原理是通过吸附剂吸附尾气中的污染物,然后通过化学反应将其转化为无害物质,最终达到净化尾气的目的。

 

(2)吸附剂的选择

吸附式scrubber中的吸附剂通常选择具有高吸附能力和良好稳定性的材料,如活性炭、分子筛等。吸附剂的选择应根据尾气中的污染物种类和浓度来确定,以确保高效吸附和转化效果。

 

(3)吸附过程

吸附式scrubber的吸附过程主要分为物理吸附和化学吸附两个阶段。物理吸附是指污染物在吸附剂表面的物理吸附作用,主要依靠吸附剂的孔隙结构和表面化学性质。化学吸附则是指污染物与吸附剂之间的化学反应,通过化学反应将污染物转化为无害物质。






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(4)适用气体

吸附式local scrubber 尾气处理设备可处理气体种类包括半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉积制程中使用的特气,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等


(5)应用行业

适合于半导体、新材料及高等院校、科研院所、航空航天和微电子等需要对水溶性毒腐气体处理的企业或实验室

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