该产品适用于具有崎岖表面的异形基片表面光刻胶涂覆，主要应用于MEMS、陶瓷器件等领域。
主要技术特点
喷胶单元
采用超声或二流体喷头进行光刻胶雾化，光刻胶采用专用精密供液泵供给，精度高，供液稳定可靠。
工作台
XYZ轴工作台采用精密电缸驱动，无污染，扫描速度及加速度精度高、稳定性好。
主轴单元
主轴电机采用交流无刷伺服电机，保证旋转转速、加速度控制精度高，稳定性好；加热机构采用接触式烘焙，加热控制精度高，温度均匀性好。
主要技术指标
晶圆尺寸：8″
胶腔数量：1个
胶腔材质：进口PP
主轴转速：0～200rpm，额定：100rpm
转速精度：±1rpm (0～100rpm)
光刻胶粘度：≤100Cp
喷嘴数量：1套
胶液流量：1～5ml/min
胶液供给精度：±0.1ml
雾化气体压力：0.1～0.3MPa
雾化气体流量：10～30L/min
电缸X轴速度：200mm/s
电缸Y轴速度：200mm/s
电缸精度：±0.1mm
温度范围：50～150℃
温度均匀性：±3℃
外形尺寸：L1500mm×W960mm×H1600mm
重量：400Kg
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