光触媒工业废气处理设备
(1)光氧催化适和在常温下将废臭气体氧化成无毒无害的物质，适和处理高浓度、气量大、稳定性强的有毒有害气体的废气处理。（2）有效净化：通过光氧催化可直接将空气中的废臭气体氧化成无毒无害的物质，不留任何二次污染。（3）绿色能源：光氧催化利用人工紫外线灯夹沙管道产生的真空波紫外光作为能源来活化光氧催化剂，驱动氧化—还原反应，而且光氧催化剂在反应过程中并不消耗，利用空气中的氧作为氧化剂，有效地降解有毒有害废臭气体成为光氧催化节约能源的*大特点。（4）氧化性强：半导体光氧催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有机物如CHCl3、四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以对难以降解的有机物具有特别意义，光氧化化的有效氧化剂是羟基自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、0-），其氧化性高于常见的臭氧、双氧水、K2MnO4、次氯酸等。（5）广谱性：光氧催化对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效，即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果，只要经过一定时间的反应可达到净化。（6）寿命长：在理论上，光氧催化剂的寿命是无限长的，无需更换。

如何安全有效地处理这些废气废液，满足环保、循环经济、节能、降耗等方面要求，较好地解决多晶硅生产过程中的环境污染和能耗问题，已成为关系到多晶硅产业能否健康发展的大问题。在多晶硅项目的设计和生产中，应采取工艺技术，有效地对废气废液进行处理，从而减少对环境的危害，这对确保多晶硅产业的健康发展具有现实和长远的意义。
1、设备内气体与液体应有足够的接触面积和接触时间。
2、气液两相应具有强烈扰动，减少传质阻力，提高吸收效率。
3、操作范围宽，运行稳定。
4、设备阻力小，能耗低。
5、具有足够的机械强度和耐腐蚀能力。
6、结构简单、便于制造和检修。

光触媒工业废气处理设备
1、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率*高可达99%以上，脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB）。2、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。
3、适应性强：可适应高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
4、运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，仅耗电约0.2度电能），设备风阻*低＜50pa,可节约大量排风动力能耗。
5、无需预处理：恶臭气体无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30℃－95℃之间，湿度在30%－98%、PH值在之间均可正常工作。
6、设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量。7、优质进口材料制造：防火、防腐蚀性能高，性能稳定，使用寿命长。
8、环保高科技产品：采用*上*技术理念，通过专家及我公司工程技术人员长期反复的试验，开发研制出的，具有自主研发的高科技环保净化产品，可分解恶臭气体中有毒有害物质，并能达到的脱臭效果，经分解后的恶臭气体，可达到无害化排放，绝不产生二次污染，同时达到高效消毒杀菌的作用。应用范围应用范围喷漆、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等废气净化处理。