产品名称:钛靶材,高纯钛靶
牌号:TA0,TA1,TA2/GR1,GR2
执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-97
用途:高纯钛靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等。
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产品名称:钛靶材,高纯钛靶牌号:TA0,TA1,TA2/GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTMB348-97用途:高纯钛靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等
产品名称:钛靶材,高纯钛靶
牌号:TA0,TA1,TA2/GR1,GR2
执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-97
用途:高纯钛靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等。
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