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VAM-200真空电弧炉

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参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:
  • 品牌:
  • 产品类别:电弧炉
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 样本:
  • 更新时间:2023-11-29 16:27:01
  • 浏览次数:6
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  • 联系人:杨经理
产品简介

VAM200 真空电弧炉

详情介绍

1. 设备用途:

采用电弧等离子体加热原理熔炼制备各种金属材料,是新材料研发与小规模生产的关键设备。

2. 设备技术指标:

2.1极限真空:6.67x10-4Pa

2.2系统漏率小于5.0x10-8Pa.l/S

2.3系统从大气开始抽气,20分钟可达到5x10-3 Pa

2.4停泵12小时后真空度≤6Pa

2.5系统主要由电弧熔炼真空室、电弧枪、电弧熔炼电源、五工位水冷铜坩埚、翻转机械手、真空吸铸装置、磁力搅拌、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。

3. 组成

3.1立式圆筒型真空室尺寸:φ190mmX340mm,前开门结构,全不锈钢结构

3.2水冷电弧枪:(引弧方式为非接触),电弧枪采用电动升降,并配有双手柄快捷操作面板。

3.3水冷铜坩埚组件:电弧熔炼阳极有7个工位,熔炼合金工位(带磁搅拌25mm);

3.4翻转机械手;

3.6真空吸铸装置:包括吸铸室和模具接口;

3.7吸铸模具:1;

3.8工作气体气路:2条;

3.9φ80弧光防护装置;

3.10  IGBT焊接电源:250A

3.11  采用分子泵+机械泵(+手动挡板阀

3.12  真空测量采用:ZDF5227真空计

3.13  设备整体尺寸小于:630×540×1800mm(长宽高)



使用单位:


广西大学

桂林电子科技大学



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