纳米压印系统
型号：MicroTec
厂家：德国Karl Suss
技术指标:
压印精度：30nm
重复性：±10nm（pitch）
±15nm（depth）
晶圆尺寸：2”, 4’’
模具尺寸：6’’
脱模方式：真空顺序脱模
主要功能及应用范围： 采用气体软压技术，压印均一性与一致性良好。典型使用领域：光子晶体、亚波长光学器件、OLED、生物微沟道、有机薄膜晶体管、渐变折射率层等。
南京盈波光电科技有限公司
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