CP-PVD系列磁控溅射镀膜设备采用的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用，。

　　CP-PVD系列磁控溅射具有高能效、高可靠性、低成本的优势。

　　本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO镀膜、薄膜太阳能电池背电极及AZO镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、AR镀膜、装饰镀膜等产业领域。

　　磁控镀膜机可用于光学、电子显示、手机等行业，采用我公司自主研发的磁控旋转阴极镀膜技术，可镀制各种金属膜及介质膜，根据不同客户需求，配置直流、中频、射频溅射单元，以及离子清洗功能，可实现反应溅射镀制各种光学膜，根据用户产品工艺采用柔性编程，实现“一键"完成从关门到开门全过程的多层膜镀制，单机实现多层膜的规模化高效率生产。