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光刻机介绍
曝光装置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″
光源 超高压水银灯 ：500W or 1kW
曝光装置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″
光源 超高压汞灯：500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃， 对齐精度自动对齐：+/- 1 μm（
峰值搜索）
Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML 光源超高压汞灯：3.5kW Ø200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光装置MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
主要规格
MA-1200、MA-1400
| MA-1200 | MA-1400 | ||
|---|---|---|---|
| 基板尺寸 | 追大 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″ | 追大 400 x 400mm | |
| 光源 | 超高压水银灯 ：500W or 1kW | 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW | |
| 外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm |
| 本体重量 | 400kg | 400kg(包含无尘机房) | |
| 光源重量 | － | 250kg | |
| 选购项 | 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 | ||
※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽
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