使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式 高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应 多种用途。
特征
● 可变更电极构造提高等离子效果。
● 搭载高精度适配器，高性能RF 电源。
● 可根据需求规格提供定制。
用途
● 硅晶圆的灰化及蚀刻
● 基板表面污垢处理
● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理
● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有机物去除
● 界面活性处理
● 表面污染物去除
内槽
规格
| 型号 | V1000 | V1000X | V1000XS |
| 等离子模式 | DP/RIE | ||
| 高频电源 | 13.56MHz | ||
| 输出功率 | Max1000W | Max1000 & 1500W | |
| 有效电极尺寸 | W280×D280mm | W300×D300mm | W400×D375mm |
| 电极 | 平行平板 | 2段电极（独立） | 平板（多目的） |
| 反应气体 | 聚合控制器2系统（填充气路另行安装） | ||
| 真空泵（标配） | 约1000L/min | 约1500L/min | 1000 & 1500L/min |
| 安全装置 | 门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等 | ||
管路连接图
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