产品介绍
概要
实时的干涉测量设备，提供蚀刻/镀膜制程中高精度的膜厚及蚀刻沟深度检测。单色光打在样品表面，由于膜厚和高度变化导致不同的光路长度时，使用干涉测量法。通过循环，系统能在监控区使用实时监测的方法计算蚀刻和镀膜的速度，在规定的膜厚和槽深来进行终点检测。基于这个相对简单的理论，系统不但非常稳定，并且可用于复杂的多层薄膜。
特征
- 监测透明薄膜的厚度和高度，如GaN,ALGaN,SiO2 和SiN。
- 适用于等离子体频谱分析。
- 生产线使用内置软件。
- 终点检测法的灵活应用。
- 的加工特点。
上海首立实业有限公司
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实时的干涉测量设备，提供蚀刻/镀膜制程中高精度的膜厚及蚀刻沟深度检测。单色光打在样品表面，由于膜厚和高度变化导致不同的光路长度时，使用干涉测量法。通过循环，系统能在监控区使用实时监测的方法计算蚀刻和镀膜的速度，在规定的膜厚和槽深来进行终点检测。基于这个相对简单的理论，系统不但非常稳定，并且可用于复杂的多层薄膜。
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概要
实时的干涉测量设备，提供蚀刻/镀膜制程中高精度的膜厚及蚀刻沟深度检测。单色光打在样品表面，由于膜厚和高度变化导致不同的光路长度时，使用干涉测量法。通过循环，系统能在监控区使用实时监测的方法计算蚀刻和镀膜的速度，在规定的膜厚和槽深来进行终点检测。基于这个相对简单的理论，系统不但非常稳定，并且可用于复杂的多层薄膜。
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