1.体积最小的动态聚焦系统，小于同行业1/3以上。

2.的小光斑设计方案，最小聚焦光斑为30微米。

3.精确的光路设计与加工，大幅面和曲面加工能量衰减小。

4.系统运行速度快，满足4000mm/s以上的速度标刻。

5.标刻幅面达到400*400mm，满足大幅面雕刻的使用要求。

6.标刻高度达到280mm，远远业80mm的高度标准。

7.改变聚焦轴的位置，可进行深度雕刻，使用于浮雕等3D应用。

8.打标软件3D操作界面，设定基准面正反面切换，3D坐标轴模拟打标内容，可以帮助使用者摆放工件，编辑打标图形。

9.精密控制打标机的焦距位置，当进行3D深度打标加工时自动调整Z轴范围，保持光斑最小化，保证物体打标后图形的效果一致性。

10.内建凹凸圆管、凹凸球面、斜面、椎体、多边形等基础模型，便于操作者快速进行打标设置。

11.支持3D模型导入，2D图形可以直接包覆在内建常用曲面上，2D图形也可以投影放入STL曲面之上。

12.控制板卡支持内存记忆卡，可以存储16组离线雕刻文档。

13.整个系统采用电磁兼容优化设计，信噪比高、抗干扰能力强。