HS1200是溫度可達1200℃的熱台，適用于制陶、冶金、地質、高溫材料等領域。冷熱台內默認為氣密腔，充入保護氣體可防止樣品高溫時發生氧化。 HS1200還可升級為真空腔，腔室內可抽真空，也可充入保護氣體，並支持抽真空後通入氣氛這樣的複雜操作。HS1200還有樣品XY移動型號，支援對樣品位置作精確定位。
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HS1200是溫度可達1200℃的熱台，適用于制陶、冶金、地質、高溫材料等領域。冷熱台內默認為氣密腔，充入保護氣體可防止樣品高溫時發生氧化。 HS1200還可升級為真空腔，腔室內可抽真空，也可充入保護氣體，並支持抽真空後通入氣氛這樣的複雜操作。HS1200還有樣品XY移動型號，支援對樣品位置作精確定位。
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