碳纳米管三级抛光剂胶体磨，高剪切抛光剂胶体磨，抛光剂胶体磨，抛光剂胶体磨，抛光剂研磨机
主要作用表现在通过活性表面除去停留在金属表面的油污、氧化及未氧化的表面杂质，保持物体外部的洁净、光泽度、色牢度。通过研磨作用影响外观的质感，提高抛光的效率。
碳纳米管的应用十分广泛，不仅应用于橡胶、工程塑料、合成树脂等复合材料上用于提高材料应力水平，还可用于导电材料，电磁屏蔽材料，锂电池、燃料电池、胶体铅酸电池的电极改性，以及新型高速光电传感器 。
碳纳米管三级抛光剂胶体磨的分散效果 影响分散乳化结果的因素有以下几点
1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
shsina定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求，新浪公司在NK2000系列的基础上又开发出NKD2000超高剪切三级剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s。
技术参数
型号 | 标准流量 | 输出转速 | 标准线速度 | 马达功率 | 进出口尺寸 |
NK2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NK2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NK2000/10 | 3000 | 4200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
NK2000/20 | 8000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NK2000/30 | 20000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NK2000/50 | 60000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
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