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PlasmaPro 80 ICPCVD

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产品类别：其它PLC
所在地：上海

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更新时间：2025-02-07 17:12:01
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产品简介

PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。询价增加到询价列表在询价列表中查看此产品

详情介绍

III-V族刻蚀工艺
硅 Bosch和超低温刻蚀工艺
类金刚石
类金刚石（DLC）沉积
二氧化硅和石英刻蚀
用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆
高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

Deep Si feature etch by ICP-RIE cryo process

RIE of InP waveguide

7 μm polyimide feature RIE

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